Proces modelowania mikro-nano przetwarzania dzieli się głównie na dwie technologie: transfer wzoru i przetwarzanie bezpośrednie.Technologia wytrawiania wiązką laserową umożliwia bezpośrednie zapisywanie, co pozwala uniknąć wieloetapowego procesu przenoszenia wzoru i bezpośrednio wytwarza trójwymiarowe mikrostruktury na materiale, kontrolując skupioną wiązkę lasera o wysokiej energii.Cechuje się precyzją wytrawiania folii poniżej mikrona i nadaje się do różnych materiałów.
Fotolitografia polega na przeniesieniu wzoru wykonanego na masce fotolitograficznej na powierzchnię podłoża.Bez względu na to, jaki rodzaj mikrourządzenia jest przetwarzany, proces mikroprzetwarzania można podzielić na jeden lub więcej cykli z trzech etapów procesu: osadzania błony, fotolitografii i wytrawiania.Litografia zajmuje czołowe miejsce w procesie produkcyjnym MEMS, a jej rozdzielczość grafiki, dokładność nakładania i inne właściwości bezpośrednio wpływają na sukces lub niepowodzenie kolejnych procesów.
Technologia wytwarzania mikro-nano odnosi się do projektowania, przetwarzania, montażu, integracji i technologii aplikacji części o wymiarach milimetrów, mikrometrów i nanometrów, a także komponentów lub układów złożonych z tych części.Technologia wytwarzania mikro-nano jest podstawowym środkiem i ważnym fundamentem do produkcji mikro-czujników, mikro-siłowników, mikrostruktur i funkcjonalnych mikro-nanosystemów.